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三氟化氮
包装规格：17L、44L
外观：在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体
纯度(%)：99.99%
熔点：-206.8°C
沸点：-129°C
临界温度：-39.3°C
临界压力：4.46Mpa
产品详情
| 项目名称 | 纯度指标（%） | |
| 三氟化氮 | ≥99.99 | |
| 杂质含量（ppm） | 氮气（N2） | ≤5 |
| 氧气+氩气（O2+Ar） | ≤3 | |
| 二氧化碳（CO2） | ≤5 | |
| 一氧化碳（CO） | ≤1 | |
| 四氟化碳（CF4） | ≤40 | |
| 水（H2O） | ≤1 | |
| 六氟化硫（SF6） | ≤5 | |
| 氟化氢（HF） | ≤1 | |
| 氧化亚氮（N2O） | ≤5 | |
产品用途：NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。
